IBSS

Назначение ионного источника

Технология ионно-лучевого распыления IBSS предназначена для нанесения прецизионных многослойных покрытий с высокой плотностью и низкой шероховатостью.

Отличительными достоинствами технологии IBSS является получение покрытий без эффекта дрейфа во времени при воздействии атмосферы и различных климатических условий, что является одним из важнейших требований к современным оптическим и функциональным покрытиям.

Дополнительными преимуществами технологии IBSS являются возможность проведения реактивных и нереактивных процессов в одной камере без переналадки (например, из мишени Si можно получать покрытия Si, SiO2, Si3N4), а также нанесение покрытий на термочувствительные подложки (пластики и т.д.).

Система комплектуется блоками питания серии IPS-I и IPS-C2.

Области применения ионного источника:

  • Тонкопленочная инкапсуляция дисплеев (OLED)
  • Прецизионные узкополосные фильтры видимом и ИК диапазонах
  • Лазерные покрытия (зеркала, просветление, фильтры)

Обладая более чем 20-ти летним опытом разработки и производства ионных источников различного назначения, компания Изовак помогает своим партнерам находить решения для наиболее требовательных задач.

Список продукции