IBCS

Назначение

Технология ионно-лучевой очистки IBCS предназначена для финишной очистки поверхности подложки от молекулярных частиц, адсорбированных газов, полимерных фрагментов, паров воды, а также для активации поверхностных связей подложки в вакуумной камере непосредственно перед нанесением тонкопленочного покрытия. Применение технологии ионно-лучевой очистки гарантирует существенно более высокую степень адгезии по сравнению с традиционными методами (например, тлеющий разряд или плазменная очистка), что в итоге обеспечивает более длительную и надежную эксплуатацию деталей с покрытиями.

Размеры ионных источников очистки могут быть от 140 мм до 3500 мм. Монтаж ионных источников очистки не представляет сложности практически в любых типах вакуумных установок поточного или периодического действия.

Для надежной и эффективной работы ионных источников компанией Изовак разработаны силовые блоки питания серии IPS-I, а также блоки питания термокомпенсаторов серии IPS-C2.

Области применения:

  • Ионно-лучевая очистка оптических деталей перед напылением (линзы, входные окна, и т.д.)
  • Ионная очистка гибких подложек (PET, PEN, и т.д.) перед нанесением покрытия на рулон в технологиях web coating - упаковочная промышленность, солнечные батареи, современные дисплеи.

Обладая более чем 20-ти летним опытом разработки и производства ионных источников различного назначения, компания Изовак помогает своим партнерам находить решения для наиболее требовательных задач.

Список продукции