Atis 500

Камера оснащена криогенным насосом, обеспечивающим максимально быстрое вакуумирование и быструю откачку паров воды. Форвакуумная откачка осуществляется безмасленным механическим насосом.

В камере располагается держатель подложек на 9 позиций, одна из которых предназначена для отпыла магнетронов. Размеры держателя позволяют загружать для обработки до 8 подложек размером 60х48 мм для двустороннего напыления.

Для очистки подложек перед покрытием в целях улучшения адгезии установлены два ионных источника очистки линейного типа апертурой 140 мм.

Для нанесения подслоя и основного металлического слоя, в камере устанавливаются 4 магнетрона постоянного тока, с диаметром мишени 150 мм

Подложки обрабатываются пошагово. Последовательность обработки задается оператором (например, сначала на все подложки подслой, потом основной слой, либо для каждой подложки подслой и сразу нанесение основного слоя).

Установка снабжается замкнутой системой водяного охлаждения (в обязанность заказчика входит только обеспечение дистиллированной водой).

ПО установки позволяет вести техпроцесс как вручную, путем выдачи команд оператором, так и в автоматическом режиме по введенному рецепту.

Предлагаемое оборудование обеспечивает производительность 40 подложек с двусторонним напылением в смену, например, для структуры Сr-Cu-Cr.

 

Основные технические данные

Обрабатываемые подложки	8 подложек в загрузке, размер 60х48 мм
Тип подложки	Кварц, стекло, кремний,другие
Распыляемые мишени	Металлы
Система распыления	Четыре магнетрона для распыления металлов, диаметр мишени 150 мм
Система очистки подложек	Два линейных ионных источника очистки, с компенсатором ионного заряда
Размер мишеней	Диаметр 150 мм, толщина 4-6 мм
Рабочие газы	Аргон, кислород (очистка)
Высоковакуумная откачка	Криогенный насос
Форвакуумная откачка	Сухой-безмаслянный насос
Расчетное энергопотребление	10 кВт (ориентировочно)
Расчетная площадь, требуемая для оборудования	2900 мм х 1700 мм