Компанией ИЗОВАК разработаны и оптимизированы технологические процессы создания антибликовых токопроводящих пленочных покрытий с использованием слоев ITO. Покрытия предназначены для защиты пользователей от электромагнитного излучения и имеют коэффициент отражения R<0,2% для области спектра λ=470-670 нм.
Покрытия наносятся методами ионно–лучевого и магнетронного распыления мишеней соответствующего состава в вакууме.
Просветляющее токопроводящее четырехслойное покрытие, содержащее ITO, состоит из чередующихся слоев оксида индия и кремния неравной λ/4 оптической толщины с пропусканием Т = (88 – 90)%.
Нанесение покрытий осуществляется на автоматизированном комплексе «IzoMod» путем сканирования ионно-лучевого источника (или двойного магнетрона IzoMag) с многопозиционной мишенью относительно поверхности подложки, помещенной в шлюзовую камеру. Контроль параметров техпроцесса осуществляется при помощи ЭВМ, которая позволяет формировать покрытие заданной толщины и состава по программе в автоматическом режиме.
ITO покрытия формируются при реактивном ионно–лучевом или магнетронном распылении в смеси газов кислорода и аргона из сплава примерно 95% веса In, 5% веса Sn. Состав газовой смеси оптимизирован для получения ITO покрытий с показателем преломления n=2.0–2.1, коэффициентом поглощения 0,002 и поверхностным сопротивлением R□=(90–160)Ом/□ при необходимой оптической толщине.
Разработана также технология формирования низкоомных проводящих покрытий с величиной поверхностного сопротивления R□<10Ом/□, которые широко применяются при изготовлении ЖК – дисплеев и других устройств электронной техники, содержащих прозрачные электродные структуры.
| 
